來源:中國国产精品免费福利樹(shù)脂網 2022-05-23 10:27:46
發(fā)表在《應用表麵科學(xué)》雜誌上的一項新研究證明了在聚(jù)碳酸酯基(jī)材上有效製造抗指(zhǐ)紋室溫塗層。來自新加(jiā)坡南洋理工大學的科學家們對這項研究做出(chū)了貢獻。
研究背景光學材料(liào),如(rú)屏幕、鏡片(piàn)和防護罩,需要表麵清潔和(hé)高光學透射率才能正常運作。這些關鍵的特性(xìng),以及在許多情況下,產品的美感會受(shòu)到表(biǎo)麵汙染的負麵影響,如在使用或處理過程中的(de)指紋、灰塵顆粒和皮膚(fū)油的殘留物。
因此,設(shè)計(jì)能夠抵禦表麵汙染的塗層是一(yī)項(xiàng)關鍵但極具挑戰性的工作。超疏水性材料(liào)的發展為(wéi)設計能抵禦這些問題的表麵提供了巨大的好處。
這些(xiē)材料具有卓越的抗水汽性能,幫助它們對抗可能存在於光學設備表麵並限製其功能的油和水(shuǐ)。
這些材料增強了表麵的抗指(zhǐ)紋和自清潔應用。近幾十年來,人們開發了許多策略來製造超(chāo)疏水結構,有許多天然的類似物存在,如荷葉和翅膀。
由於(yú)油擁有比水更低的表麵張(zhāng)力(lì),開發超疏水性材料是一項具有挑戰(zhàn)性的工作。到目前為止,要實現具有驅油能力的表麵是很困難的。
近年來,研究人員已經(jīng)開(kāi)發了一些關鍵標準,包括(kuò)表麵粗糙度和低表麵(miàn)能。然而(ér),製(zhì)造同時滿足驅(qū)油和透明要求的材料和塗層是具有挑戰性的(de),因為它們可能會發生衝突。在超疏(shū)水塗層中保持高透(tòu)光(guāng)率的困難阻礙了其商業發展。
近年來已經開(kāi)發了製造(zào)方法,使用化學蝕刻來增(zēng)加基(jī)材(cái)的表麵粗糙度,並沉積低表麵能量的有機塗層。其他探索的方法包括噴霧(wù)塗層和浸漬塗層,以提供一個簡化的單步製(zhì)造過程。
聚合物鏡片和光學設備由於其抗衝擊性、輕質性和塑形潛力,近年來受到關注, 也逐漸使其有必要具有抗(kàng)指紋和自清潔能力。然而(ér),由於聚合物的惰性化學特(tè)性和低(dī)熔點,用(yòng)透明的(de)兩棲材料塗覆(fù)這(zhè)些基材的研究是有限的,而且目前的一些製造方法也不適合這一目(mù)的。
該研(yán)究發表在《應用表麵科學》上(shàng),展(zhǎn)示了一種簡(jiǎn)單(dān)有效的製造方法,用於在聚(jù)碳酸(suān)酯基材上塗覆疏水性塗層,以改善其疏油性和超疏水性,同時保(bǎo)持高透明度和(hé)光學性能。作為一種室(shì)溫方法,使用(yòng)該(gāi)工藝可(kě)以對聚合物材料進行改性。
該塗層是由納米多孔二氧化矽顆粒的薄膜組(zǔ)成。這層薄膜使用(yòng)脈衝激光沉積技術牢固地(dì)粘在聚碳酸酯基材(cái)上,這是一種物理氣相沉積技術,使用高功率的脈衝激光束在真空室內聚焦生產而成。
利用這種簡單而有(yǒu)效的製造工藝(yì),作(zuò)者製造了一種具有卓越的抗指紋和(hé)抗反(fǎn)射性能的塗層。利用一種氟碳化合物使表麵具有出色的自清潔能力。
該塗層顯示出良好的機械性(xìng)能(néng),非常穩定,並表現出對聚碳酸酯基材的強大附(fù)著力(lì)。這要歸功於沉積前的等離子處理過程。
美國軍事(shì)標準(zhǔn)被用來評估所(suǒ)製備的塗層的(de)耐磨性和附著力。在塗層上貼上膠帶,由於塗層的超疏水性質,它對樣品表麵的附著力非常弱或沒有附著力。此外,還進行了(le)橫紋測試,以評估塗層質量和(hé)基材附著力。測試中沒有觀察到崩裂或分層,顯示出卓越的塗層附著力和質量。
用粗棉布墊在樣品表麵摩擦,以進一步評估塗層的耐久性。這引起了表麵(miàn)形態的變化,表麵粗(cū)糙度和表麵潤濕性受到影響。平均透光率略有(yǒu)下(xià)降,但(dàn)仍高於原始(shǐ)的聚碳酸酯。這也導致了接觸角度下降,但塗層的抗指紋特性在很(hěn)大程度上得到了保(bǎo)留。
總結
這(zhè)項研究證明了脈衝激光沉積法適合在聚碳酸酯基(jī)材上沉積超疏水塗(tú)層,以增強材料對表麵(miàn)汙染的抵抗力,並為光學設備賦予自清潔特性。
這個研究領域是一個(gè)相對較新的領域,這項研究為未來的研究(jiū)人員提供了(le)一個指導(dǎo),即表麵結構如何增強(qiáng)聚碳酸酯(zhǐ)光學鏡片和設備(bèi)的抗指紋性能。此外,它(tā)證明了(le)所製備的(de)塗層保持了高水平的光學透射率和透明度,這對商業應用(yòng)是至(zhì)關重要的。
京公(gōng)網安備11010202009511號 京ICP備(bèi)12032208號